PHABLE設備基于Eulitha采用的位移塔爾博特光刻(DTL)技術，通過低成本的光刻系統提供高分辨率光刻。DTL克服了傳統光刻中衍射的局限性，可曝光出質量優異的亞微米周期圖案。非接觸式曝光可同時保護掩模版和晶圓，無聚焦成像技術可實現在非平面基材和厚光刻膠上進行均勻曝光。
PhableR具備以低成本光刻系統曝光高分辨率周期性結構的能力。它類似于傳統的紫外曝光機，將涂有光刻膠的晶圓接近掩模版，然后用一束紫外深紫外光照射。由于Eulitha的突破性PHABLE曝光技術，分辨率不再受到不希望出現的衍射效應的限制。如亞微米周期線性光柵和二維圖案等結構(如六方和四方晶格曝光)，均具有高均勻性和保真度。
應用廣泛，包括:
學術(R&D)
XR (AR / VR /MR)
光電子學
光學元件
生物/醫學
色彩/視覺效果
光刻技術服務
