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廣電計量檢測集團股份有限公司

旋風(fēng)等離子清洗機 清洗/消毒設(shè)備

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱韋氏納米系統(tǒng)(深圳)有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       號Tergeo
  • 所  在  地深圳市
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 更新時間2023/7/21 9:05:01
  • 訪問次數(shù)635
產(chǎn)品標(biāo)簽:

等離子清洗機清洗機

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First-Nano System GmbH 

  • 2003年          創(chuàng)立于德國德累斯頓工業(yè)大學(xué)(Dresden University of Technology)

  • 2008年          香港成立德國韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司   

  • 2015年          上海成立德國韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司中國代表處,負(fù)責(zé)中國區(qū)業(yè)務(wù)

  • 2018年          深圳正式成立韋氏納米系統(tǒng)(深圳)有限公司,更好的為中國南方區(qū)市場

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產(chǎn)品范圍:

薄膜沉積/Thin Film Deposition 
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蝕/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面處理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液

 

光學(xué)透鏡和儀器,實驗室器具,專用儀器儀表,電化學(xué)設(shè)備和部件
旋風(fēng)等離子清洗機
PIE 代表 Plasma ,Ion ,Electron
PIE 專業(yè)致力于等離子刻蝕,清洗,表面處理和離子,電子束產(chǎn)品的應(yīng)用。
PIE INC 成立于等離子研究小組在勞倫斯伯克利國家實驗室。經(jīng)過15年在硅谷研究經(jīng)驗,我們的SmartClean™ *的技術(shù)已經(jīng)被世界上*大學(xué),研究所,實驗室使用。
旋風(fēng)等離子清洗機 清洗/消毒設(shè)備 產(chǎn)品信息

Tergeo plasma cleaners 旋風(fēng)等離子清洗機

 

特    征:  

  • 清洗方式:沉浸式等離子清洗可以高速刻蝕和表面改性;遠(yuǎn)程等離子體可以輕微的清除表面污染,如SEM、TEM樣品清洗;脈沖放電后產(chǎn)生等離子體的平均功率小于0.5watt,可以處理極精致樣品。            

  • 操作方法:自動配方執(zhí)行;自動作業(yè)順序執(zhí)行;亦可手動操作。            

  • 等離子傳感器:雙等離子強度傳感器監(jiān)測現(xiàn)場等離子源和遠(yuǎn)程等離子源。等離子強度實時顯示在LCD觸摸屏上。            

  • *工藝控制能力:壓力傳感器、溫度傳感器、MFC氣體流量計、雙等離子強度傳感器、自動阻抗匹配。            

  • 腔體材料:鋁法蘭,石英腔體

  • 石英腔體尺寸:內(nèi)徑:110mm;外徑120mm;深度280mm            

  • 樣品架:2mm厚高純度石英板            

  • 射頻天線:外部射頻電極和天線設(shè)計減少了內(nèi)部金屬電極在等離子清洗機中發(fā)現(xiàn)的金屬濺射問題。            

  • 射頻功率:13.56mhz高頻射頻電源,自動原位等離子體源的阻抗匹配。射頻功率有兩種選擇:0-75watt和0-150watt。13.56MHz的射頻電源產(chǎn)生比兆聲電源產(chǎn)生高濃度等離子體。            

  • 工藝氣路:高達(dá)三個質(zhì)量流量控制氣體輸入(0 ~ 100sccm)。一個額外的排氣口。?英寸世偉洛克壓縮接頭連接器。            

  • 用戶界面:7寸電阻式觸摸屏,觸摸的手指,沒有手寫筆的要求。            

  • 軟件:總共20個可定制的配方。每個工藝多達(dá)三個清理步驟。

典型的應(yīng)用:  

  • 引線鍵合倒裝芯片底部填充,器件的封裝和解封            

  • 光刻膠灰化、除渣、硅片清洗            

  • PDMS/微流控/載玻片/芯片實驗

  • 去除的掃描電鏡/電鏡樣品上碳?xì)湮廴疚?/p>

  • 改善金屬與金屬或復(fù)合材料的結(jié)合           

  • 改善塑料、聚合物和復(fù)合材料的粘接

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