中顯微電子20噸/小時超純水設備系統工程項目安裝調試完成，與中顯一期（一期超純水設備也是益民產）的處理水量是一樣，工藝采用也是反滲透+混床，設備是為了滿足深圳市中顯微電子有限公司黃山工廠生產工藝用高純水項目。超純水水量20  m3/h，出水水質大于17MΩ.cm 。

超純水設備系統制備的主要技術參數

1.前處理產水量 :                  ≥26.7m3/h；

2.反滲透純水設備系統產水量 :      ≥20m3/h；

3.超純水設備混床系統產水量 :      ≥20m3/h；

4.產水水質指標  20m3/h     ≥17 MΩ·cm （參照國標EW-Ⅱ）

5.供水壓力   0.35Mpa

6.溫度：     常溫；

超純水設備系統配置：預處理、反滲透、混床除鹽裝置。

供水方式連續產出（24小時運行）

超純水設備系統設計依據
1.本電子工業純水站工程項目設計依據如下：
2.原水水質分析資料；
3.高純水的品質要求（產品水水質指標），以及相關國家標準；
4.高純水的生產規模;
5.用戶對系統整體水準要求。

超純水設備系統布局
預處理部分、反滲透部分、混床部分、17M供水部分集中放置在*水站。為保證高純水的水質和水量，將整個水處理系統置于PLC控制下運行，并適時監控。

超純水設備系統工藝流程圖