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晶圓潔凈烘箱，光刻硬烘烤箱潔凈度100級的潔凈熱處理HEPA過濾器與前出風型水平層流循環方式實現并保證箱內的溫度分布的均勻性與100級潔凈度。Z小限度控制風速距...

無氧烘箱、防氧化烤箱無氧烘箱，在工作時，工作室內充滿了惰性氣體CO2,N2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧化烘箱在工業中的用途：IC包裝，LCD,晶體管，傳感器，...

無氧烤箱，厭氧烘箱廣泛用于航天、石油、化工、電子、通訊等科研及生產單位做材料、零件、設備等的高溫潔凈和無氧干燥及老化試驗。

無塵潔凈烤箱，精密潔凈烘箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、LCD、C...

光刻膠高溫固化烤箱，半導體高溫烤箱適用于觸摸屏、晶圓、LED、PCB板、ITO玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業。應用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料...

HMDS真空烤箱，全自動HMDS預處理系統通過對烤箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS...

HMDS烘箱，半導體工藝HMDS設備有可自動吸取添加HMDS功能，智能型的程式設定，一鍵完成作業。它成功地將硅片表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合...

半導體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。箱內空氣封閉自循環。經耐高溫高效空氣過濾器過濾，使烘箱工作室內處于無塵狀態。

前烘潔凈烘箱，半導體工藝烤箱，用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤，強制送風循環方式。

無塵烤箱，高溫無塵無氧烤箱工作室為不銹鋼結構。適用于觸摸屏、晶圓、LED、PCB板、ITO玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業。

潔凈烘箱，百級潔凈烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤。

RTP快速退火爐，快速熱處理設備（RTP）簡介快速熱處理設備（RTP）可用于砷化鎵、硅以及其他半導體材料，離子注入后的退火、硅化物的形成、歐姆接觸制備以及快速氧...

等離子去膠機，等離子表面處理機采用國內*射頻源，其電磁兼容性能優良、高頻輻射小，符合國家環保規定。本機外形美觀大方，操作簡便。等離子去膠機，半導體工藝表面處理機...