HMDS真空烤箱的特點
  來源: 上海雋思實驗儀器有限公司

一、HMDS真空烘箱技術參數：

電源電壓：AC 220V±10%/50Hz±2%

輸入功率：2400W

控溫范圍：室溫+10℃-250℃

溫度分辨率：0.1℃

溫度波動度：±0.5℃

達到真空度：133Pa

容積：90L

工作室尺寸（mm）：450*450*450（可選擇）

載物托架：2塊

二、HMDS真空烤箱的使用優點

1、JS-HMDS真空烤箱預處理性能更好，由于是在經過數次的氮氣置換再進行的HMDS處理，所以不會有塵埃的干擾，再者，由于該系統是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝，同一個容器中進行，晶片在容器里先經過100℃-200℃的去水烘烤，再接著進行HMDS處理，不需要從容器里傳出，而接觸到大氣，晶片吸收水分子的機會大大降低，所以有著更好的處理效果。

2、處理更加均勻，由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液態涂布不可比擬更好的均勻性。

3、效率高，液態涂布是單片操作，而本系統一次可以處理多達4盒的晶片。

4、更加節省藥液，實踐證明，用液態HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統處理4盒晶片所用藥液還多；

5、更加環保和安全，HMDS是有毒化學藥品，人吸入后會出現反胃、嘔吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等，由于整個過程是在密閉的環境下完成的，所以不會有人接觸到藥液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾氣是直接由機械泵抽到尾氣處理機，所以也不會對環境造成污染。