詳細摘要: 全自動光罩清洗設備是半導體制造中的關鍵工藝設備,用于高效去除光罩表面污染物。其通過超聲波、化學清洗或等離子體技術,精準清除光刻膠殘留、顆粒及金屬雜質,確保光罩圖...
產品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-05-06 在線留言污水處理設備 污泥處理設備 水處理過濾器 軟化水設備/除鹽設備 純凈水設備 消毒設備|加藥設備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設備
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詳細摘要: 全自動光罩清洗設備是半導體制造中的關鍵工藝設備,用于高效去除光罩表面污染物。其通過超聲波、化學清洗或等離子體技術,精準清除光刻膠殘留、顆粒及金屬雜質,確保光罩圖...
產品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-05-06 在線留言詳細摘要: 硅片最終清洗設備是半導體制造關鍵工藝設備,用于去除硅片表面雜質、顆粒及殘留物。它通過化學或物理清洗方式,確保硅片表面潔凈度達標準,以滿足芯片制造的嚴苛要求。設備...
產品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-05-06 在線留言詳細摘要: 具備高度均勻的蝕刻能力,可精確控制孔的深度、直徑等參數。其蝕刻過程穩定,能保證孔壁的光滑度和垂直度。通過流體力學設計和控制系統,適應不同工藝需求,確保蝕刻效果的...
產品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-03-07 在線留言詳細摘要: CMP預清洗機是一種用于半導體制造領域的專業設備。在化學機械拋光(CMP)工藝前,它發揮著關鍵作用。其能有效去除半導體硅片、晶圓等表面的污垢、雜質及殘留物,為后...
產品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-03-07 在線留言您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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主營產品:專注半導體濕法設備制造公司,主要提供實驗室研發級到全自動量產級槽式清洗機,單片清洗機,高純化學品/研磨液供應回收系統及工程
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