光源發射器，特別是激光發射器，其工作原理基于受激輻射和光放大的過程。這一過程包括幾個關鍵步驟：
激光介質：激光器中存在一個激光介質，這可以是氣體、固體或半導體等，其中包含能夠吸收能量的原子或分子。
能量源：激光器中有一個能量源，如閃光燈、電流或其他激發源，用來提供能量。
受激輻射：在激發源的作用下，激光介質中的原子或分子被激發到一個高能級。這些激發態的原子或分子不穩定，會迅速回到基態，并釋放出能量。在這個過程中，有些原子或分子會釋放出光子，而這些光子與其他處于激發態的原子或分子之間的能量差相等。
光放大：當激光介質中的原子或分子釋放出光子時，這些光子在介質內發生多次碰撞，激發更多原子或分子到激發態。這種現象被稱為受激輻射，它可以導致光子數量不斷增加而形成一個光子密集的系統。最終，通過反射器或增透鏡等光學元件對光子進行光程延遲和調節，實現激光的聚焦、定向和發射。
此外，光源發射器還涉及到從電信號到光信號的轉換，這是光纖通信系統的核心器件之一。其性能直接關系到光纖通信系統的性能和質量指標。半導體發光二極管(LED)和半導體激光器(LD)是兩種常見的光源，它們的工作原理、應用以及相關的調制是光纖通信中的重要內容12。
總的來說，光源發射器的原理涉及到復雜的物理過程，包括受激輻射、光放大以及通過光學元件實現光的聚焦、定向和發射，這些過程共同作用，使得光源發射器能夠在通信和其他領域中發揮重要作用。
高頻光源發射器 LLS 1275/01
LLS 1075/03/25 LICHTBAND
高頻光源發射器 LIC480/11
線性光源發射器IMP500.02S
CPC光源 LLS 675/11 Lichtband 24VDC
EVK2.11.3對中控制板
EMG模塊SPCC2-2
EVK2.11.2 信號處理板
EMG 制動器ED 301/6
EVK 2-CP/600.71/L/R 伺服閥IP54
EVK 2.12 EMG測量電路板 糾偏放大板
電路處理板 EVK2.17
EMG 制動器 ED800-60
ED 23/5 電力液壓推動器 EMG
ED 50/6 電力液壓推動器 EMG
ED 30/5 電力液壓推動器 EMG
EMG位移傳感器 LWH 300 SI6C
EMG 光電式測量傳感器 EVK 2-CP/600.71/L/R
LLS1075/01 線性光源發射器
SV1-10\48\315\6糾偏伺服閥
CPC光源發生器LLS1075.01,24V 測量范圍:1;規格:24V
IGS1/40/120/50/01 叉形電感式傳感器
EMG 糾偏系統 高精度電感式CPC:SR-CPC-SMI-HE框架:SMI-HE/500/2100/1500/200
EMG控制器type:iCON SE 02.0 program:7101 帶DP通訊
SMI1.05傳感器
VKI3-10.1傳感器
MCU16.1 處理器
EMG控制器type:iCON XE 02.0 program:6101 帶DP通訊
