污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
得利特（北京）科技有限公司
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閱讀：55發(fā)布時(shí)間：2023-7-7
人類社會(huì)在飛速發(fā)展的過(guò)程中，對(duì)水資源也造成了嚴(yán)重的破壞和污染。在我國(guó),正面臨著水資源惡化、短缺的情況，這些情況影響到我國(guó)的發(fā)展和建設(shè)，影響到我國(guó)水資源的循環(huán)、可持續(xù)利用。在這樣的情況下，為了真正實(shí)現(xiàn)治理水污染的目的，必須對(duì)水質(zhì)進(jìn)行科學(xué)、準(zhǔn)確、快速的分析。水質(zhì)分析儀器的出現(xiàn)、大大提升了水質(zhì)分析的速度，并同時(shí)能夠在一定程度上保證水質(zhì)分析的準(zhǔn)確性和靈敏度。因而，水質(zhì)分析儀器的發(fā)展前景和應(yīng)用前景是較為廣闊的。
余氯是指氯投入水中后，除了與水中細(xì)菌、微生物、有機(jī)物、無(wú)機(jī)物等作用消耗一部分氯量外，還剩下了一部分氯量，這部分氯量就叫做余氯。
余氯可分為化合性余氯(指水中氯與氨的化合物，有NH2Cl、NHCl2及NHCl3三種，以NHCl2較穩(wěn)定，殺菌效果好)，又叫結(jié)合性余氯；游離性余氯(指水中的OC1+、HOCl、Cl2等，殺菌速度快，殺菌力強(qiáng)，但消失快)，又叫自由性余氯。
余氯即化合性余氯與游離性余氯之和。
自來(lái)水出水余氯指得是游離性余氯檢驗(yàn)自來(lái)水中的細(xì)菌，不能馬上得出結(jié)果，而自來(lái)水中細(xì)菌的存在數(shù)量與其余氯量是成反比的，故測(cè)定自來(lái)水中的余氯，可以作為衡量對(duì)水消毒的效果和預(yù)示自來(lái)水再次受污染的信號(hào)。對(duì)于管網(wǎng)較長(zhǎng)，有死水端和設(shè)備陳舊的情況尤為需要。所以余氯是保證氯的持續(xù)殺菌能力，防止外來(lái)污染的一個(gè)重要指標(biāo)。
當(dāng)自來(lái)水中含氯量過(guò)低時(shí)，便會(huì)使自來(lái)水再次受污染，使之不能滿足水質(zhì)要求，但當(dāng)自來(lái)水中含氯量過(guò)高時(shí)，一來(lái)浪費(fèi)氯量，二來(lái)水中氯味過(guò)濃，不可口，不好喝，并且能使印染物染色后沖洗時(shí)造成脫色，還影響水產(chǎn)養(yǎng)殖業(yè)，對(duì)家庭養(yǎng)育金魚也有影響。
綜上所述，檢測(cè)水中的余氯是多么的重要，下面得利特技術(shù)人員詳細(xì)介紹一下余氯分析儀器
B1110臺(tái)式余氯分析儀可測(cè)量水中的余氯和總氯，具有操作簡(jiǎn)便、靈敏度高等特點(diǎn)。廣泛應(yīng)用于城市供水、食品飲料、環(huán)境、醫(yī)療、化學(xué)、制藥、熱電、造紙、養(yǎng)殖、生物工程、發(fā)酵工藝、紡織印染、石油化工、水處理等領(lǐng)域的水質(zhì)現(xiàn)場(chǎng)快速檢測(cè)。
儀器特點(diǎn)
1、利用進(jìn)口高性能、長(zhǎng)壽命（10萬(wàn)小時(shí)）、高亮度光源，配以窄帶濾光系統(tǒng)，光學(xué)穩(wěn)定性，不易受到各種光的干擾，因而儀器精度高、穩(wěn)定性好。
2、大屏幕LCD中文顯示，中文菜單操作，簡(jiǎn)便、直觀。
3、測(cè)量數(shù)據(jù)可**保存，工作曲線除出廠標(biāo)定曲線外，還留有用戶自行標(biāo)定曲線。
4、主機(jī)機(jī)殼采用模后ABS材料，防腐蝕性好。
5、采用高性能、低功耗16位單片機(jī)系統(tǒng)，性能優(yōu)良。
6、十幾年的水質(zhì)監(jiān)測(cè)儀器生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)，確保產(chǎn)品的品質(zhì)。
技術(shù)參數(shù)
測(cè)量范圍：（0.02～10.00）mg/L
分為兩個(gè)量程：（0.02～2.00）mg/L，（2.00～10.00）mg/L
示值誤差：≤±3%(F.S)
重 復(fù) 性 ：≤3%
光學(xué)穩(wěn)定性：儀器吸光值在20min內(nèi)漂移小于0.002A
外形尺寸：主機(jī)（帶打印）：340nm×250nm×130nm
主機(jī)（不帶打印）：266nm×200nm×130nm
環(huán)境溫度:（5～45）℃
相對(duì)濕度: ≤85%
供電電源: AC(220±22)V；（50±0.5）Hz
重 量：4kg
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