等離子體去除惡臭是通過兩個途徑實現的：一個是在電子的瞬間是量作用下，打開某些氣體分子的化學鍵，使其直接分解成單質原子或分子；另一個是在大量電子、離子、激發態粒子和氧自由基、氫氧自由基(自由基因帶有不成對電子而具有的活性)等作用下的氧化分解成產物。主要有下面幾個過程：
1、在電子作用下，強氧化性自由基O、OH、OH2的產生；
2、物分子受到電子碰撞被激發，及原子鍵斷裂形成小碎片基團和原子；
3、O、OH、HO2與激發原子、物分子、廢氣處理公司破碎的基團、其他自由基等發生一系列反應，物分子 終被氧化降解為CO、CO2、H2O。去除率的高低與電子能量和物分子結合鍵能的大小有關。
從除臭機理上分析，主要發生以下反應：
H2O+O2、O2-、O2+——SO3+H2O
NH3+O2、O2-、O2+——NOx+H2O
H2S去除率可達91.9%，NH3去除率可達93.4%，臭氣濃度去除率可達93.6%。
從上述反應來看，惡臭組分經過處理后，轉變為NOx、SO2、CO2、H2O等小分子，在 的濃度下，各種反應的轉化率均在95%以上，而且惡臭濃度較低，因此產物的濃度，均能被周邊的大氣所接受。
