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新興光電材料的生產、加工和清潔；LCD顯示屏、PDP等離子顯示器、高品質光管顯像管、微電子工業、線路板、集成電路、半導體等需要大量高純度水來清洗，半導體對水質的要求很高，這對半導體超純水設備的簡單性、自動化、連續性和可持續性提出了更嚴格的要求。

用于清洗半導體產品的超純水設備采用雙級RO+EDI+混床超純水處理工藝，確保處理后的超純水出水水質電阻率達到18.2 5MΩ.cm，核心部件采用品牌，PLC+觸摸屏控制，整個系統自動化程度高，系統穩定性高。

半導體超純水設備在半導體產品清洗中的應用：

1、半導體材料和晶體材料的生產、加工和清潔

2、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路

3、電解電容器生產中鋁箔和工作部件的清潔

4、顯像管和陰極射線管生產用純水和成分

5、集成電路生產中的高純水清洗硅片

6、晶體管在生產中主要用于清潔硅片，少量用于液體藥物制備

7、電子管生產、電子管陰極涂層碳酸鹽溶液制備

為了滿足用戶的需求，實現標準水質，限度地減少各級污染，延長半導體超純水設備的使用壽命，減少操作員的維護工作量，在材料選擇中，采用了國內外品牌，與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。

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