中科院西安光機所發明“單晶硅爐水垢的清洗方法”

時間：2013/7/26閱讀：575

目前，對單晶硅爐等精密機械的水垢清洗均采用單一的清洗液來進行，但由于上述機械結構較為復雜且包含了多種不同材質的零件，這樣造成采用單一的清洗液洗時無法*清除水垢，也可能導致部分材質被腐蝕。無法*清除水垢會增加上述機械的實用成本，而腐蝕部分材質時可能產生巨大的安全隱患。

　　中科院西安光學精密機械研究所科研人員針對這一問題進行了深入研究，發明出一種清洗單晶硅爐爐內所形成水垢的清洗方法，主要應用于單晶硅爐等精密機械的水垢清洗。該方法解決了現有清洗方法不能*清洗單晶硅爐爐內的水垢，或清洗時可能造成單晶硅爐內中其他材質損壞的問題。

　　該單晶硅爐水垢的清洗方法是：先將一定量的水放入帶有超聲波振蕩和加熱裝置的儲液箱，將水加熱至10～60℃；將酸液分別緩緩加入儲液箱，開啟超聲波進行攪拌；通過清洗液的高速沖刷和反應來清洗水垢等步驟處理，*清洗掉水垢。

　　該方法于5月2日獲得發明*，號為“ZL201010574823.7”。

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