我國的試劑規(guī)格基本上按純度（雜質(zhì)含量的多少）劃分，共有高純、光譜純、基準(zhǔn)、分光純、優(yōu)級(jí)純、分析和化學(xué)純等7種。國家和主管部門頒布質(zhì)量指標(biāo)的主要優(yōu)級(jí)純、分級(jí)純和化學(xué)純3種。

（1）優(yōu)級(jí)純（GR：Guaranteed reagent），又稱一級(jí)品或保證試劑，99.8%，這種試劑純度zui高，雜質(zhì)含量zui低，適合于重要精密的分析工作和科學(xué)研究工作，使用綠色瓶簽。

（2）分析純（AR），又稱二級(jí)試劑，純度很高，99.7%，略次于優(yōu)級(jí)純，適合于重要分析及一般研究工作，使用紅色瓶簽。

（3）化學(xué)純（CP），又稱三級(jí)試劑，≥ 99.5%，純度與分析純相差較大，適用于工礦、學(xué)校一般分析工作。使用藍(lán)色（深藍(lán)色）標(biāo)簽。

（4）實(shí)驗(yàn)試劑（LR：Laboratory reagent），又稱四級(jí)試劑。

純度遠(yuǎn)高于優(yōu)級(jí)純的試劑叫做高純?cè)噭?ge; 99.99%）。高純?cè)噭┦窃谕ㄓ迷噭┗A(chǔ)上發(fā)展起來的，它是為了專門的使用目的而用特殊方法生產(chǎn)的純度zui高的試劑。它的雜質(zhì)含量要比優(yōu)級(jí)試劑低2個(gè)、3個(gè)、4個(gè)或更多個(gè)數(shù)量級(jí)。因此，高純?cè)噭┨貏e適用于一些痕量分析，而通常的優(yōu)級(jí)純?cè)噭┚瓦_(dá)不到這種精密分析的要求。目前，除對(duì)少數(shù)產(chǎn)品制定國家標(biāo)準(zhǔn)外（如高純硼酸、高純冰乙酸、高純氫氟酸等），大部分高純?cè)噭┑馁|(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)還很不統(tǒng)一，在名稱上有高純、特純Extra Pure）、超純、光譜純等不同叫法。

除了上述四個(gè)級(jí)別外，目前市場(chǎng)上尚有：
基準(zhǔn)試劑（PT：Primary Reagent）：專門作為基準(zhǔn)物用，可直接配制標(biāo)準(zhǔn)溶液。

光譜純?cè)噭⊿P：Spectrum pure）：表示光譜純凈。但由于有機(jī)物在光譜上顯示不出，所以有時(shí)主成分達(dá)不到99.9%以上，使用時(shí)必須注意，特別是作基準(zhǔn)物時(shí)，必須進(jìn)行標(biāo)定。

根據(jù)高純?cè)噭┕I(yè)范圍的不同，可將其分為以下幾種：
⑴光學(xué)與電子學(xué)高純化學(xué)品，即電子級(jí)試劑（EIectronicgrade）試劑。

⑵金屬-氧化物-半導(dǎo)體（Metal-Oxide-Semiconductor）電子工業(yè)高純化學(xué)品，即UP-S級(jí)或MOS試劑（讀作：摩斯試劑）。一般用于半導(dǎo)體，電子管等方面，其雜質(zhì)zui高含量為0.01-10ppm，有的可降低到ppb數(shù)量級(jí)，金屬雜質(zhì)含量小于1ppb，塵埃等級(jí)達(dá)到0-2ppb，適合0.35—0.8微米集成電路加工工藝。

⑶單晶生產(chǎn)用高純化學(xué)品。

⑷光導(dǎo)纖維用高純化學(xué)品。

此外，還有儀分試劑、特純?cè)噭s質(zhì)含量低于1/1000000～1/1000000000級(jí)）、特殊高純度的有機(jī)材料等。

（5）等離子體質(zhì)譜純級(jí)試劑（ICP-Mass Pure Grade）:絕大多數(shù)雜質(zhì)元素含量低于0.1ppb，適合等離子體質(zhì)譜儀（ICP Mass）日常分析工作。

（6）等離子體發(fā)射光譜純級(jí)試劑（ICP Pure Grade）:絕大多數(shù)雜質(zhì)元素含量低于1ppb ，適合等離子體發(fā)射光譜儀（ICP）日常分析工作。

（7）原子吸收光譜純級(jí)試劑（AA Pure Grade）:絕大多數(shù)雜質(zhì)元素含量低于10 ppb ，適合原子吸收光譜儀（AA）日常分析工作。

國外試劑純度級(jí)別說明

Ultra Pure：超純，與GR級(jí)相近。

High Purity：高純，與AR級(jí)相近。

Biotech：生物技術(shù)級(jí)，與BR級(jí)相近。

Reagent：試劑級(jí)，與CP級(jí)相近。

ACS：美國化學(xué)學(xué)會(huì)標(biāo)準(zhǔn)，與AR級(jí)相近。

USP：藥用級(jí)