污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
南京科捷檢測(cè)科技發(fā)展有限公司
閱讀:13632發(fā)布時(shí)間:2019-8-20
原子吸收光譜法(AAS)測(cè)樣品空白值高原因有兩大類:
一、留有殘余,造成記憶效應(yīng)。
1、常見原因是剛做完標(biāo)準(zhǔn)曲線馬上就測(cè)空白試劑,特別是標(biāo)準(zhǔn)曲線濃度較高的情況下,造成記憶效應(yīng),空白值過高。
2、火焰法空白值過高,進(jìn)純水或空白試劑清洗一段時(shí)間再測(cè)。
3、石墨爐法空白值過高,高溫空燒石墨管1-3次。
4、因石墨管積碳過多而空白值高,通過通空氣去除多余積碳,對(duì)石墨管壽命有影響,慎用。
5、石墨管壽命已到期,更換管子。
6、氫化物發(fā)生器石墨爐法空白值過高,因還原劑(硼氫hua鈉或硼氫hua鉀)配制而引起,重新配制,還原劑需現(xiàn)配現(xiàn)用;因石墨管而引起,高溫空燒管子1-3次;因氫化物發(fā)生器而引起,調(diào)節(jié)泵速、Ar流量,檢查通氫化物的進(jìn)樣管是否有液體,若有則需吹掃干凈。
二、前處理帶來的污染。
污染源有三:1、實(shí)驗(yàn)室用水的污染;2、酸或試劑本底較高;3、消解過程帶入的污染。首先判斷是何原因引起的污染,按照對(duì)應(yīng)的方法改進(jìn)。接著仔細(xì)審視整個(gè)前處理過程。對(duì)于消解過程帶入的污染可以是很多方面:容器器皿清洗不干凈、儀器設(shè)備帶入的污染、玻璃容器金屬離子的析出、通風(fēng)櫥灰塵的掉落、環(huán)境因素等。這一過程要具體問題具體分析,如果排除是儀器的原因,則要在前處理過程的每個(gè)步驟尋找原因。
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