CP-PVD系列磁控濺射鍍膜設備采用的in-line產線結構，Twin-Mag孿生陰極磁控濺射技術，并配以全自動控制系統、的真空系統，可在玻璃襯底上鍍制SiO2、ITO、AZO、Al、Ni、Ti等各類絕緣介質薄膜、金屬或合金薄膜，并可連續濺鍍多種不同材質的薄膜構成復合多膜層結構，適合大規模光學、電學薄膜的生產，做到一機多用，。
CP-PVD系列磁控濺射具有高能效、高可靠性、低成本的優勢。
本產品可廣泛應用于觸摸屏ITO鍍膜、LCD顯示屏ITO鍍膜、薄膜太陽能電池背電極及AZO鍍膜、彩色濾光片鍍膜、電磁屏蔽玻璃鍍膜、AR鍍膜、裝飾鍍膜等產業領域。
磁控鍍膜機可用于光學、電子顯示、手機等行業，采用我公司自主研發的磁控旋轉陰極鍍膜技術，可鍍制各種金屬膜及介質膜，根據不同客戶需求，配置直流、中頻、射頻濺射單元，以及離子清洗功能，可實現反應濺射鍍制各種光學膜，根據用戶產品工藝采用柔性編程，實現“一鍵”完成從關門到開門全過程的多層膜鍍制，單機實現多層膜的規模化高效率生產。
