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廣電計量檢測集團股份有限公司

JC Nabity電子束曝光系統(NPGS納米圖形發生器)

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱南京覃思科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地南京市
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2025/5/20 14:00:05
  • 訪問次數32
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南京覃思科技有限公司是原江南光學儀器廠設計師改制后設立的一家從事光學、電子儀器銷售與服務的專業公司。公司地址:南京市鼓樓區中山北路281號新城市廣場虹橋中心2-728B。經營范圍主要為:光學儀器;電子光學儀器;光電測量儀器;電子儀器;與儀器配套的計算機軟硬件的銷售、研發以及技術服務。本公司具有多年的行業經驗,擁有良好的客戶資源和技術能力,所銷售的儀器質量和服務均為,在用戶中口碑很好。為進一步強化華北地區的市場及服務,我公司在北京設立了辦事處。 我公司獲得了英國Quorum電鏡制樣設備、英國Deben電鏡附件、荷蘭ASI光子計數型混合像素探測器相機(X ray 和 TEM ED等應用)、荷蘭Micro to Nano電鏡耗材及用品、美國JC Nabity 電子束曝光系統(NPGS納米圖像發生系統)、美國PIE Scientific等離子清潔儀等儀器的中國區代理商和服務商的資格。產品包括:英國Quorum(Emitech):CryoSEM冷凍傳輸系統/掃描電鏡冷凍臺、噴金儀、噴碳儀、磁控離子濺射儀、熱蒸發鍍膜儀、雙層鍍膜儀、手套箱專用鍍膜儀、臨界點干燥儀、冷凍干燥儀、等離子清潔刻蝕灰化儀、輝光放電處理機(又稱輝光放電清潔儀,用于TEM銅網處理)等。英國DEBEN:Microtest系列與光學顯微鏡/原子力/XRD/XCT/加速器等系統配套的微測試拉伸臺、半導體制冷的電鏡小冷臺系列、BSE/CL/STEM等KED系列Centaurus探測器、EBIC電子束感生電流測量放大及成像系統、電子束閘、電鏡腔室紅外CCD成像等。荷蘭ASI:X射線探測器、TEM ED探測器相機以及TPX3Cam納秒時間戳高速光學相機等。荷蘭M2N:電鏡及微束分析行業耗材耗品。荷蘭Micro to Nano(簡稱M2N),持續從事基于顯微鏡新需求的耗品研發,是SEM、TEM、FIB、AFM、SPM、LM等微納領域之貼心伙伴,提供優質和創新的樣品樁樣品座、碳膜載網、校準標樣、靶材、碳棒、碳繩、工具、配件、銀膠、碳膠帶、銅膠帶、儲存盒、清潔用品、真空密封、安全防護等各種耗材器具。美國JC Nabity:NPGS電子束曝光系統(電子束微影、電子束光刻、電子束暴光、納米圖形發生器)。美國PIE:Tergeo系列臺式等離子清潔儀、TEM樣品桿專用等離子清潔儀、EM-KLEEN遠程等離子清潔儀(電鏡腔室在線清潔)。日本NIKON生物顯微鏡;其它進口體視顯微鏡、金相顯微鏡、工業測量顯微鏡;國產“江南牌(JN)”各類光學顯微鏡;與各種顯微鏡配套的國產ACCUR電動平臺和顯微圖象處理分析軟件DT-2000(含多種進口、國產CCD攝像頭)等。本公司還承接各種顯微鏡的數字化改造。 在“把優質產品和優質服務奉獻給用戶”的工作方針指導下,我公司經常舉辦或贊助各類學術研討、交流及技術培訓等社會活動,經常參加各種展會,同時用戶跟蹤溝通體系完善,客戶檔案管理完備,客戶回訪服務;進而取得了良好的經濟效益和社會效益. 客戶涵蓋于國內高等院校、科研院所、醫療衛生機構、政府機構、工礦企業等領域。例如:北大、清華、浙大、南大、東大、復旦、同濟、上海交大、中科大等院校;中科院微生物所、遺傳所、生物物理所、近代物理所、微電子所、等離子所、植生所、水生所、寒旱所、金屬所、海洋三所、上海光機所、長春應化所、北京201所、綿陽九院、山西煤化所、廣州能源所、上海石化院、大慶油田、勝利油田、首鋼研究院、國家納米中心、紫金山天文臺等科研機構;廣西、山東、寧波等檢驗,北京法醫鑒定中心等國家機構;Intel英特爾、三星Samsung、西門子Siemens、日立Hitachi、博世Bosch、希捷Seagate等跨國企業;華為、天馬、晨光等國內骨干企業。 本公司一向堅持以“誠信經營、誠實服務”為立業宗旨,奉行“精研覃思、無微不至”的企業文化,公司將以更優秀的科技產品及服務回報社會,愿與社會各界竭誠合作,共同發展。
自上世紀八十年代成立以來,美國JC Nabity Lithography Systems公司一直致力于基于商品SEM、STEM或FIB的電子束光刻裝置的研制,其研發的納米圖形發生器系統(Nanometer Pattern Generation System納米圖形發生系統,簡稱NPGS,又稱電子束微影系統)技術在同類系統中,為行業者,世界各地越來越多的用戶包括大學、科研機構及政府實......
JC Nabity電子束曝光系統(NPGS納米圖形發生器) 產品信息

  基于SEM/FIB改裝的NPGS V9.1電子束曝光系統

  1)NPGS以既有的SEM、STEM或FIB等為基礎,外加電子束控制系統,透過電腦界面控制電鏡中電子束的矢量掃描,以直接刻寫圖形。

  2)NPGS系統兼具原SEM的觀測功能。不影響SEM本身功能。

  3)功能強大、操作簡便、使用靈活。

  4)NPGS和當今主流的SEM或FIB等均可配套。

  NPGS V9.0是一個可以控制掃描電鏡電子束的軟件程序。基于電鏡的電子束曝光簡單分為兩部分:刻寫設計和圖形運行。刻寫設計是通過NPGS隨機提供的DesignCAD程序來做。此CAD程序已經過修改,增加了用于電子束曝光的命令。圖形運行包括設定參數,用于NPGS計算圖形上每個點的位置以及曝光時間。

  NPGS硬件板卡:定制的微影板卡是基于一個計算機工作站內部高速PCIe插槽安裝的。主要特點是:

  1. 采用16位高速數模轉換輸出,X、Y雙通道同時輸出,同步掃描頻率5 MHz,兼容6MHz,電子束駐留時間最小增量0.5納秒,且所有頻率下均能達到這個分辨率。

  2. 刻寫掃描方式:矢量掃描方式和位圖掃描方式。

  3. 集成的電子束閘控制輸出。

  4. 圖像獲取采用集成的16位模數轉換輸入。

  5. 基于PCIe插槽,安裝方便,運行可靠。

  電子束阻斷器(束閘):電場型高速束閘。NPGS系統也支持無束閘運行。

  皮可安培計:基于SEM的電子束曝光系統需要一個皮安計,它可精確讀出轟擊樣品的電子束束流。通常,需要從電鏡載物臺外接一個皮安計與樣品電流輸出相連。

  電鏡束流:NPGS能可選連接控制法拉第杯和/或從皮可安培計讀數,但大多數用戶會采用手動控制的法拉第杯和皮可安培計。

  電鏡參數及電動臺控制:免費提供幾款通用的電鏡數字驅動程序及載物臺驅動程序。如果有串口通訊協議,本系統支持任何外部控制。

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