optogama閃爍晶體，衰減時間快，穩定性高
optogama 提供高質量的閃爍晶體，可吸收伽馬射線或中子等高能輻射，并將該能量轉化為可見光子的短脈沖。這些晶體具有密度高、運行速度快、輻射硬度大、性價比高等特點。閃爍晶體可用于科研、醫療和工業應用，可根據要求提供定制解決方案。
此外，閃爍晶體的訂貨數量是2件。
Ce:LYSO 晶體
Lu?SiO?: Ce是一種相對較新的閃爍晶體，因其速度快、機械強度高和耐化學性好而聞名。
主要特點：
衰減時間快，光輸出高，機械阻力和穩定性，高密度和抗輻射硬度
應用：
斷層掃描系統 (PET)，醫療XCT，高能物理，輻射探測器，石油測井，安全掃描，伽馬光譜
光譜和熱機械性能：
| 密度（g/cm 3） | 7.2 |
| 熔點 (°C) | 2050 |
| 硬度（莫氏） | 5.8 |
| 衰減時間 (ns) | 64 |
| 有效原子序數 | 40-45 |
| 發射峰(nm) | 420 |
| 光產率（光子/MeV） | 29000 |
| 光輸出（至 NaI: Tl） | ~85% |
| 折射率 | 1.82 |
| 吸濕性 | 無 |
參數規格：
| 尺寸 | 陣列 | 長度 | 鍍膜 | 面尺寸公差 | 長度公差 | SKU |
| 4x4 mm | 16 | / | 無 | +/-0.15 | +/-0.15 | 19587 |
| 8 x 8 mm | 64 | / | 無 | +/-0.15 | +/-0.15 | 19588 |
| 16 x16 mm | 256 | / | 無 | +/-0.15 | +/-0.15 | 19589 |
Ce:YAG 晶體
Ce:YAG晶體具有優異的機械性能和耐化學性，可用于環境的檢測，并能用薄型屏幕進行生產。它還具有很高的發光效率，其峰值發射（550nm）可以與硅光電二極管探測器器件有效耦合。
主要特點
機械阻力和穩定性，良好的導熱性，衰減時間快，不吸濕
應用：
低能輻射和阿爾法粒子檢測，電子和X射線成像屏幕，β和X射線計數
光譜和熱機械性能：
| 密度（g/cm 3） | 4.56 |
| 熔點 (°C) | 1970 |
| 硬度（莫氏） | 8.5 |
| 衰減時間 (ns) | 70 |
| 有效原子序數 | 32 |
| 發射峰(nm) | 550 |
| 光產率（光子/MeV） | 15000 |
| 光輸出（至 NaI: Tl） | 40% |
| 折射率 | 1.82 |
| 吸濕性 | 無 |
| 能量分辨率 | <8% |
參數規格：
| 尺寸 | 厚度 | 鍍膜 | 表面平整度 | 表面質量 | 面尺寸公差 | 長度公差 | SKU |
| 10 x 10 mm | 1 mm | 無 | L/2 | 40/20 S/D | +/-0.15 | +/-0.15 | 19562 |
| 20 x 20 mm | 1 mm | 無 | L/2 | 40/20 S/D | +/-0.15 | +/-0.15 | 19563 |
| 10 x 10 mm | 1 mm | 無 | L/2 | 40/20 S/D | +/-0.15 | +/-0.15 | 19564 |
| 20 x 20 mm | 1 mm | 無 | L/2 | 40/20 S/D | +/-0.15 | +/-0.15 | 19565 |
Ce:YAP晶體
Ce:YAP閃爍體是一種快速、機械強度高、耐化學腐蝕的閃爍晶體。其高機械性能使其能夠進行精密加工，并且可以在晶體的入口表面直接沉積一層非常薄的鋁層來制作入口窗口。
主要特點：
機械阻力和穩定性，衰減時間快，不吸濕
應用：
伽瑪和 X 射線計數，電子顯微鏡，X 射線成像屏幕，斷層掃描系統；
光譜和熱機械性能：
| 密度（g/cm 3） | 5.4 |
| 熔點 (°C) | 1875 |
| 硬度（莫氏） | 8.5 |
| 衰減時間 (ns) | 25 |
| 發射峰(nm) | 370 |
| 光產率（光子/MeV） | 25000 |
| 光輸出（至 NaI: Tl） | 70% |
| 折射率 | 1.96 |
| 吸濕性 | 無 |
| 能量分辨率 | <5% |
參數規格：
| 尺寸 | 厚度 | 鍍膜 | 表面平整度 | 表面質量 | 面尺寸公差 | 長度公差 | SKU |
| 10 x 10 mm | 1 mm | 無 | L/2 | 40/20 S/D | +/-0.15 | +/-0.15 | 19582 |
| 20 x 20 mm | 1 mm | 無 | L/2 | 40/20 S/D | +/-0.15 | +/-0.15 | 19586 |
