產品詳情

日立離子研磨儀標準機型IM4000Ⅱ能夠進行截面研磨和平面研磨。還可通過低溫控制及真空轉移等各種選配功能，針對不同樣品進行截面研磨。

品 牌：Hitachi
產 地：日本

低溫控制功能：將液氮裝入杜瓦罐中，以此作為冷卻源間接冷卻樣品。IM4000Ⅱ配有溫度調節控制功能，以防止樹脂和橡膠樣品過冷。

真空轉移功能：離子研磨加工后的樣品可以在不接觸空氣的狀態下直接轉移到SEM*1、AFM*2上。真空轉移功能與低溫控制功能可同時使用。（平面研磨真空轉移功能不適用低溫控制功能）。

日立離子研磨儀能夠進行截面研磨和平面研磨。還可通過低溫控制及真空轉移等各種選配功能，針對不同樣品進行截面研磨。

離子束加工是在真空條件下，離子槍中低壓惰性氣體離子化，出射的陽離子又經加速，獲得具有一定速度的離子束投射到樣品表面，由于離子帶正電荷，其質量比電子大數千、數萬倍，所以離子束比電子束具有更大的撞擊動能，靠微觀的機械撞擊能量加工樣品。

高效率的截面研磨
配備截面研磨能力達到500 µm/h*1以上的高效率離子槍。因此，即使是硬質材料，也可以高效地制備出截面樣品。

復合型研磨儀
截面研磨
即使是由不同硬度以及研磨速度材質所構成的復合材料，也可以通過IM4000Ⅱ制備出平滑的研磨面優化加工條件，降低因離子束所致樣品的損傷。
可裝載20 mm(W) × 12 mm(D) × 7 mm(H)的樣品

截面研磨的主要用途
金屬以及復合材料、高分子材料等樣品的截面制備
含有裂縫和空隙等特定位置的樣品截面制備
多層樣品的截面制備以及對樣品EBSD分析的前處理。

平面研磨
直徑約為5mm范圍內的均勻加工
應用領域廣泛
可裝載直徑50 mm × 高度25 mm的樣品
可選擇旋轉和擺動（±60度，±90度的擺動）2種加工方法

平面研磨的主要用途
去除機械研磨中難以消除的細小劃痕和形變
去除樣品表層部分
消除因FIB加工所致的損傷層