產品詳情
型號：OTF-1200X-II-ZL
產品概述：OTF-1200X-II-ZL是一款爐管可在爐管內部移動的（在真空氣氛保護環境下移動）管式爐，最多可依次移動4個坩堝。特殊的坩堝推送機構，可將坩堝在爐管內推出后再拉回，讓坩堝能做往返移動。坩堝移動位置&爐體的溫度控制都采用一觸摸屏控制。此款設備可進行物理化學混合沉積（HPCVD），快速熱蒸發（RTE）等實驗，特別適合制備多層二維晶體材料。
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技術參數實驗案例警示/應用提示配件詳情
| 開啟式管式爐 | -
雙溫區管式爐：兩個獨立的溫控系統分別獨立控制兩個溫區 -
加熱區長度：溫區1:200mm, 溫區2:200mm -
爐管材料：高純石英 -
爐管尺寸：外徑: 60 ×內徑: 54×長: 760 mm -
溫度曲線圖(兩個溫區設置在800℃時所測，僅供參考）（可點擊圖片查看詳細資料）） -
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工作溫度：1200℃（<1hr) -
連續工作溫度：1100℃ -
控溫精度：+/-1℃ -
 
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| 真空密封 | -
配有不銹鋼密封法蘭，上面安裝有不銹鋼截止閥和機械壓力表 -
進氣端法蘭接口為Φ6.35卡套接頭，出氣端法蘭接口為KF25接口 -
法蘭密封圈采用水冷卻，使用時需要通入冷卻水，可在本公司選購循環水冷機 -
真空度：10E-2 torr（采用機械泵），10-E5 torr(采用分子泵) -
  
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| 坩堝移動機構（轉輪式法蘭） | -
一根鎧裝熱電偶通過左端法蘭通入到爐管內部，并與坩堝相連接(圖1) -
通過步進電機驅動使坩堝移動，并和熱電偶和坩堝一起移動，實時監測樣品的溫度 -
進氣端法蘭轉輪式法蘭（圖2） -
可同時在轉輪系統中放入4個坩堝，可交替將放入4種材料的石英坩堝自動送入到石英管中（可在真空狀態或氣氛保護狀態進行運作）
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| 坩堝移動控制 | -
通過一步進電機控制坩堝移動的速度和位置 -
可控制坩堝最小移動位移為1mm -
坩堝移動距離為200mm -
  
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| 防腐型數顯真空計 |
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| 混氣系統 | -
此套設備中配有一2路混氣系統 -
輸出功率：18W -
工作溫度：5-45℃ -
氣壓：3×106Pa -
精度：±1%FS -
質量流量計量程： -
1:0-100sccm -
2:1-199sccm -
可根據客戶要求選購1-5路供氣系統
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| 產品尺寸 | 2400L×600W×1300mm H
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| 國家 | |
| 質保 | 一年質保期，終生維護（不包含爐管，密封圈和加熱元件） |
| 質量認證 |
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| 使用注意事項 | -
爐管內氣壓不可高于0.02MPa -
由于氣瓶內部氣壓較高，所以向爐管內通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全 -
當爐體溫度高于1000℃時，爐管內不可處于真空狀態，爐管內的氣壓需和大氣壓相當，保持在常壓狀態 -
進入爐管的氣體流量需小于200SCCM，以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊 -
石英管的長時間使用溫度＜1100℃ -
對于樣品加熱的實驗，不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱，則需時刻關注壓力表的示數，若氣壓表示數大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發生（如爐 管破裂，法蘭飛出等）
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| 應用注意事項 | |
