產品概述：
PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜，此立式PECVD設備由真空立式管式爐、射頻電源、供氣系統、石英真空室、真空測量系統組成。
PECVD系統配置：
1.1200度開啟式滑動單溫區真空管式爐
2.等離子射頻電源
3.多路質量流量控制系統
4.真空系統
產品特性：
此立式PECVD設備溫度范圍寬；濺射區域長；整管可調；精致小巧，性價比高，可實現快速升降溫，是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等的理想選擇。立式PECVD系統以含鉬電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和30段程序控溫儀表，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點。
