超純水設(shè)備去除哪些雜質(zhì)
超純水是一種純度很高水，主要用于：集成電路工業(yè)中用于半導(dǎo)體原材料和所用器皿清洗、光刻掩模版制備和硅片氧化用水汽源等。此外，其他固態(tài)電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等制作也都要使用超純水。那么超純水設(shè)備去除哪些雜質(zhì)。
①無機電離雜質(zhì)，如Ca、Mg、Na、K、Fe2+、Fe3+、Mn、Al、HCO、CO、SO、Cl、NO、NO、SiO、PO等。
②有機物，如烷基苯磺酸、油、有機鐵、有機鋁以及其他碳?xì)浠衔锏取?br>
③顆粒，如塵埃、氧化鐵、鋁、膠體硅等。
④微生物，如細(xì)菌、浮游生物和藻類等。
⑤溶解氣體，如N2、O2、CO2、H2S等。超純水中電離雜質(zhì)含量用水電阻率數(shù)值來衡量。理論上，純水中只有H離子和OH離子參加導(dǎo)電。在25℃時超純水電阻率為18.3(兆歐·厘米)，一般約為15～18(兆歐·厘米)。
水中各種雜質(zhì)，同時存在，因此超純水設(shè)備在處理過程中，采用多種方式去除，先后經(jīng)過了前置預(yù)處理、反滲透、超濾等過程，其間同時還加活性碳，滅菌等過程。
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反滲透設(shè)備
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