化學(xué)氣相沉積設(shè)備系列產(chǎn)品概述
1、適用范圍：適合于各單位實驗室、高等院校實驗室、教學(xué)等的項目科研、產(chǎn)品中試之用。
2、產(chǎn)品優(yōu)點及特點：應(yīng)用于半導(dǎo)體薄膜、硬質(zhì)涂層等薄膜制備，兼等離子體清洗、等離子體刻蝕。
3、主要用途：主要用來制作SiO2、Si3N4、非晶Si：H、多晶Si、SiC、W、Ti-Si、GaAs、GaSb等介電、半導(dǎo)體及金屬膜。
化學(xué)氣相沉積設(shè)備系列技術(shù)參數(shù)
| 型號 | PECVD350 |
| 真空腔室結(jié)構(gòu) | 立式上開蓋結(jié)構(gòu) |
| 真空腔室尺寸 | Φ350×H300mm |
| 基片臺尺寸 | Φ200mm |
| 襯底溫度 | 500±5℃ |
| 電源 | RF 500W |
| 控制方式 | PLC控制 |
| 占地面積 | 主機L1600×W800×H1700mm |
| 總功率 | ≥6KW |
北京泰科諾科技有限公司自2003年成立以來，一直專注于真空設(shè)備的研發(fā)、設(shè)計、制造，是一家集真空薄膜新材料沉積設(shè)備、真空技術(shù)應(yīng)用設(shè)備等相關(guān)設(shè)備及其工藝的研發(fā)、設(shè)計、制造、銷售、服務(wù)于一體的*。
公司的研發(fā)中試孵化基地位于毗鄰雄安新區(qū)的任丘經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)，距離未來的雄安高鐵站約20公里，占地面積20000㎡,不僅建有包括機加工、電氣、結(jié)構(gòu)組裝，調(diào)試等多個中試生產(chǎn)車間和辦公樓以及其它輔助廠房；同時建有研發(fā)工藝、服務(wù)客戶的開放實驗室。公司還聘請了國內(nèi)外真空行業(yè)zi深的專家、教授作為本公司的技術(shù)顧問，確保真空設(shè)備產(chǎn)品高水平，始終保持較強的自主研發(fā)能力、*的設(shè)計概念、領(lǐng)xian的技術(shù)優(yōu)勢。
