一體化污水處理設備為用戶提供一種可埋地設置成套有機污水處理設備。其主要目的是使生活污水和與之類似的工業(yè)有機污水經(jīng)該設備處理后達到用戶要求的排放標準。以三代玻璃鋼材料為主要結(jié)構(gòu)的，全新工藝組合的HDS-F設備是污水處理工藝與制造上又上了一個新臺階、使在此領域的污水處理設備達到*水平。
一體化污水處理設備采用目前較為成熟的生化處理技術接觸氧化法，主要是對生活污水和與之相類似的工業(yè)有機污水的處理,采用一體化設計，占地少，運行費用低，配備全自動控制系統(tǒng)，操作維護方便。水質(zhì)設計參數(shù)也按一般生活污水水質(zhì)設計計算,按進水平均為：BOD 200mg/l計，出水BOD按20mg/l計,共有六部分組成：（1）初沉池；（2）接觸氧化池：（3）二沉池（4）消毒池，消毒裝置；（5）污泥池；（6）風機房組成。
一體化污水處理設備是將一沉池、I、II級接觸氧化池、二沉池、污泥池集中→體的設備,并在I、II級接觸氧化池中進行鼓風曝氣,使接觸氧化法和活性污泥法有效的結(jié)合起來,同時具備兩者的優(yōu)點,并克服兩者的缺點,使污水處理水平進一步提高,其具備的突出優(yōu)點有:
1、抗沖擊負荷的能力強。接觸氧化法的平均停留時間在6小時以上;
2、具有脫氮除磷能力,并可以通過調(diào)節(jié)設備的構(gòu)造,達到處理工業(yè)廢水,生活污水,城市污水的能力;
3、接觸氧化池內(nèi)的填料多為組合軟填料,質(zhì)輕、高強、物理化學性質(zhì)穩(wěn)定,比表面積大,生物膜附著能力強,污水與生物膜的接觸效率高;
4、接觸氧化池內(nèi)采用曝氣器進行鼓風曝氣,使纖維束不斷漂動,曝氣均勻,微生物生長成熟,具有活性污泥法的特征;
5、出水水質(zhì)穩(wěn)定,污泥產(chǎn)量少并易于處理;
6、潛水泵中可設于設備之中,減少工程投資;
7、設備可設于地面上,也可埋于地下。埋于地下時,上部覆上可用于綠化,廠區(qū)占地面積少,地面構(gòu)筑物少;
8、易于完成自動控制,管理、操作簡單。
二、設備特點
1、可埋入地表以下，設備上部種植花木、草坪，也可設置在室內(nèi)。
2、對周圍環(huán)境無影響、污泥產(chǎn)生量少、噪音小于二類地區(qū)的標準。
3、全自動控制，無需專業(yè)人員管理。
4、操作簡便、維修方便、工藝新、效果好、使用壽命長。
5、設備可按標準布置，也可隨地形需要特殊布置。
三、設備的適用范圍
1、處理水量：標準型為1.0 ～80.0（m3/h），大于80.0（m3/h）時需另行設計。
2、原水濃度：BOD5：標準型≤250mg/L，加強型≤400mg/L，超過400 mg/L時需另行設計。
3、設備主要適用于住宅區(qū)、賓館、碼頭、機場、商場、療養(yǎng)院、學校、廠礦等行業(yè)的生活污水和類似的工業(yè)廢話水。
四、污水處理設備的材質(zhì)選用
1、全不銹鋼結(jié)構(gòu)
2、A3鋼板結(jié)構(gòu)
3、（Q235）鋼板、玻璃鋼（FRP）復合結(jié)構(gòu)
4、玻璃鋼（FRP）圓形
5、鋼筋混凝土結(jié)構(gòu)
五、wsz型設備工藝說明
設備的設計主要是對生活污水和與工業(yè)有機污水的處理。其主要處理手段是采用目前較為成熟的生化處理技術接觸氧化池。水質(zhì)設計參數(shù)按污水進水BOD5為250mg/L，出水BOD5為20mg/L計算。共有七部份組成：⑴初沉池；⑵缺氧池；⑶接觸氧化池；⑷二沉池；⑸消毒池、消毒裝置；⑹污泥池；⑺風機房組成。
⑴初沉池：初沉池為豎流式沉淀池，污水在沉淀池的上升流速為0.3～0.4毫米/秒，沉淀下來的污泥提升至污泥池。SFW-5型及以下的設備不設置初沉池。
⑵缺氧池：缺氧池為脫氮處理而設置，池內(nèi)設置YDT型立體彈性填料，作為反硝化細菌的載體，硝化液中回硝態(tài)氨和亞酸態(tài)氧在反硝化細菌的作用下，還原成氮氣，達到脫氮的目的，缺氧池有效停留時間為2.5～3.5h，溶解氧控制在≤0.5mg/L。
⑶接觸氧化池：污水自流至接觸池進行生化處理，接觸池分為三級，停留時間為8h，（加強型設備接觸氧化時間可達8～12h）填料為新穎彈性填料，易結(jié)膜，不堵塞，接觸氧化池氣水比在15：1左右。
⑷二沉池：生化后的污水流到二沉池，二沉池為豎流式沉淀，表面負荷為＜1.0m3/m2.h，排泥提升至污泥池。
⑸消毒池、消毒裝置：消毒池按規(guī)范：“TJ14-74”標準為不小于30分鐘，若是醫(yī)院污水，消毒池可增加停留時間至1～1.5h。
消毒采用固體氯片接觸溶解的消毒方式，消毒裝置能根據(jù)出水量的大小不繼改變加藥量，達到多出水多加藥，少出水少加藥的目的，需要其它消毒裝置可另行配制。
