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上海依肯機械設備有限公司
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納米氧化鋅分散機，納米級粉末的分散，普遍會出現物料團聚的現象，導致粒徑變大。IKN研磨式分散機，將膠體磨和分散機一體化結合，先研磨后分散機，解決團聚問題！氧化鋅分散機，納米物料分散機，研磨式分散機，IKN研磨式分散機專業于納米級物料的分散機，解決團聚問題，還原原始納米粒徑，更高效！
納米氧化鋅分散機，氧化鋅分散機，納米氧化鋅研磨分散機，高剪切分散機，納米分散機，研磨式分散機，納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間，是一種面向21世紀的新型高功能精細無機產品，使其在陶瓷、化工、電子、光學、生物、醫藥等許多領域有重要的應用價值，具有普通氧化鋅所無法比較的特殊性和用途。
納米氧化鋅分散機，納米級粉末的分散，普遍會出現物料團聚的現象，導致粒徑變大。IKN研磨式分散機，將膠體磨和分散機一體化結合，先研磨后分散機，解決團聚問題！
CMD2000系列研磨式分散設備是IKN（上海）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
CMD2000系列研磨式分散機的特點：
① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨
② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。
如有疑問請致電IKN銷售工程師，IKN全體員工將竭誠為您服務！ IKN主：www.iknchina。。ｃｏｍ 段明明
CMD2000系列研磨分散機設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
1.表中上限處理量是指介質為“水"的測定數據。
2.處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產品的要求。
3.如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準確的參數，以便選型和定制。
4.本表的數據因技術改動，定制而不符，正確的參數以提供的實物為準.
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