10000風量UV光氧

光催化原理 

    半導體的能帶結構通常是由一個充滿電子的低價帶和一個高空的高能導帶構成，價帶和導帶之間的區(qū)域稱為禁帶，域的大小稱為禁帶寬度。半導體的禁帶寬度一般為0.2~3.0eV，是一個不連續(xù)區(qū)域。半導體的光催化特性就是由它的特殊能帶結構所決定的。當用能量等于或大于半導體帶隙能的光波輻射半導體光催化時，處于價帶上的電子就會被激發(fā)到導帶上并在電場作用下遷移到例子表面，于是在價帶上形成了空穴，從而產(chǎn)生了具有高活性的空穴電子對。空穴可以奪取半導體表面被吸附物質或溶劑中的電子，使原本部吸收光的物質被激活并被氧化，電子受體通過接受表面的電子而被還原。 

光解主要是利用185和O2結合產(chǎn)生的臭氧，185直接作用輔助，光催化也一樣，光催化就是利用了254波長照射TIO2*在有水分情況下產(chǎn)OH-，這個有強氧化性，也可以分解一部分有機氣體，光催化是日本傳進來的。但光催化產(chǎn)生的0H-自由基只能附著在固體網(wǎng)的表面，存活時間是10的負5至負6次方秒，時間短。不過一直在產(chǎn)生，一次性分解效率一般不會超過5%，適合用在家用空氣凈化機對室內空氣往返循環(huán)的環(huán)境。254波長的都可以的，185波長的更可以，波長越短能量越強。只是185NM波長的只能在真空環(huán)境了存在，在普通有空氣的環(huán)境射程短，大部分和O2結合把O2電離成了O+O,O+O2生產(chǎn)了O3臭氧，但185的在燈管近距離總還是有一部分 

10000風量UV光氧

【摘要】本文介紹了微波催化氧化技術、微波催化反應機理、微波催化氧化技術的發(fā)展、微波催化氧化技術在環(huán)保方面的應用、微波催化氧化技術在垃圾滲濾液處理中的應用、微波強化光催化氧化技術研究、微波誘導氧化技術在有機廢水處理中的應用以及結論與展望、 

【關鍵詞】微波、催化氧化技術、機理、環(huán)保、垃圾滲濾液、強化光、有機廢水、處理及應用

微波催化氧化技術 

微波催化氧化技術（MCAO）即將微波技術應用于濕式催化氧化技術中，克服了濕式催化氧化技術的一些缺點。如前所述，在微波場中，劇烈的極性分子震蕩， 能使化學鍵斷裂故可用于污染物的降解。眾多學者認為微波誘導催化反應的基本原理是將高強度短脈沖微波輻射聚集到固體催化劑床表面上，使某些表面點位選擇性地被很快加熱至很高溫度。此時反應器中的任何試劑都不會被微波直接加熱，但當這些試劑與受激發(fā)的表面點位接觸時卻可以發(fā)生化學反應。這種反應通過脈沖強度及作用時間等來控制。這說明，催化劑不僅收集熱能，還起著普通催化劑的作用，通過催化劑的專一及選擇性可影響反應的進程。